差之毫厘，失之千里。光學(xué)薄膜制備作為精密制造領(lǐng)域之一，其精密程度常常達(dá)到納米甚至微納級別，因此，其制備復(fù)雜程度是不言而喻的，有時(shí)候微小的失誤會(huì)導(dǎo)致滿盤皆輸，為薄膜制備帶來巨大困難。

光學(xué)薄膜的制備是一個(gè)復(fù)雜的過程，它是通過將大塊固體材料蒸發(fā)或?yàn)R射，經(jīng)過氣相傳輸，最后在基板上凝結(jié)得到的，在其制備過程中，包括環(huán)境真空條件（真空度）、蒸發(fā)速率、基板溫度等多面的工藝因素的影響，對薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分與理想狀況出現(xiàn)較大偏差，最終導(dǎo)致薄膜的機(jī)械性能、抗激光損傷閾值、光學(xué)性能的變化。

在眾多的工藝影響因素中，影響最大且易觀察的往往是薄膜的厚度均勻性，其會(huì)嚴(yán)重影響薄膜的物理性能，根據(jù)制備經(jīng)驗(yàn)，薄膜的厚度不均勻會(huì)導(dǎo)致薄膜光譜性能產(chǎn)生較大偏移，比如，在增透膜的制備過程中會(huì)導(dǎo)致薄膜的透射率偏低，其次他還會(huì)影響薄膜的激光損傷閾值、薄膜應(yīng)力等等，正如文頭說到的：差之毫厘，失之千里。因此在薄膜制備設(shè)備中，往往都配有精確度極高的膜厚監(jiān)控系統(tǒng)。